Material zur Bildung eines Resistschutzfilms und Verfahren zur Bildung von Resistmustern damit
EP1788439
Art A1
23. Mai 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788439
- Aktenzeichen
- EP05767418
- Anmeldetag
- 29. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/039G03F7/38H01L21/027G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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