Herstellungsverfahren für Epitaxial-Wafer
EP1811066
Art B1
17. April 2013
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1811066
- Aktenzeichen
- EP07000457
- Anmeldetag
- 10. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 17. April 2013
- Erteilung
- 17. April 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/06C30B15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank