Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1811335
- Aktenzeichen
- EP05770691
- Anmeldetag
- 10. August 2005
- Veröffentlichung
- 30. März 2011
- Erteilung
- 30. März 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/08C23F4/00G03F1/14H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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Bardehle Pagenberg wurde 1979 in München gegründet und unterhält in Paris einen Standort nahe der Opéra Garnier. Dort verbindet die Kanzlei französische Avocats mit europäischen Patentanwälten, Schwerpunkte Life Sciences, Pharma und Chemie neben Mechanik und Telekommunikation, aktiv vor dem Einheitlichen Patentgericht.