Halbleiterspeicherbaustein und Verfahren zu Seiner Herstellung
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1811562
- Aktenzeichen
- EP05787588
- Anmeldetag
- 30. September 2005
- Veröffentlichung
- 25. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8247H01L27/115H01L29/788H01L29/792H01L21/318H01L29/51
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
TOHOKU UNIVERSITY - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
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Fachgebiete
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.