Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur für Hochleistungs-Halbleiterbauelemente
EP1815511
Art B1
2. September 2015
Anmelder: Northrop Grumman Systems Corporation, NORTHROP GRUMMAN CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1815511
- Aktenzeichen
- EP05815152
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 2. September 2015
- Erteilung
- 2. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/778H01L29/66H01L29/735H01L21/82H01L21/762H01L21/8258// H01L21/84H01L27/06H01L29/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Northrop Grumman Systems Corporation
NORTHROP GRUMMAN CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Northrop Grumman
US-amerikanischer Rüstungs- und Luftfahrtkonzern mit Sitz in Virginia, tätig in den Bereichen Verteidigungselektronik, Flugzeugbau, Raumfahrt und Cybersicherheit.
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