Verfahren zur Herstellung einer Schicht mit einem vorgegebenen Schichtdickenprofil

EP1816233 Art B1 17. Dezember 2008

Anmelder: Avago Technologies Wireless IP (Singapore) Pte. Ltd., Infineon Technologies AG 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1816233
Aktenzeichen
EP07008531
Anmeldetag
22. Mai 2001
Veröffentlichung
17. Dezember 2008
Erteilung
17. Dezember 2008
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/58C23C16/56H01C17/24H03H3/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Avago Technologies Wireless IP (Singapore) Pte. Ltd.
Infineon Technologies AG
Land
🇸🇬 Singapur
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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