Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1826616
Art B1
27. September 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1826616
- Aktenzeichen
- EP07250561
- Anmeldetag
- 13. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 27. September 2017
- Erteilung
- 27. September 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
van Os, Lodewijk Hubertus
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon