Laser-Plasma-Euv-Lichtquelle, Zielglied, Herstellungsverfahren für ein Zielglied, Zielbereitstellungsverfahren und Euv-Belichtungssystem

EP1837897 Art A1 26. September 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1837897
Aktenzeichen: EP05822789
Anmeldetag: 27. Dezember 2005
Veröffentlichung: 26. September 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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