Film zur Verringerung der Rauhigkeit an der Schnittstelle zwischen einer Leiterbahn und einem Dielektrikum, Materialien für die Herstellung dieses Films und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP1840949
Art A3
14. November 2007
Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1840949
- Aktenzeichen
- EP07005824
- Anmeldetag
- 21. März 2007
- Veröffentlichung
- 14. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/312H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJITSU LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
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Fachgebiete
Kanzlei
Mitscherlich PartmbB
München, Deutschland
Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.
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