Zusammensetzung zur Entfernung von Fotolackresten nach dem Ätzen und Antireflexions-Unterbeschichtungen
EP1844367
Art A1
17. Oktober 2007
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1844367
- Aktenzeichen
- EP06717549
- Anmeldetag
- 9. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/30G03F7/32G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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