Lithografische Vorrichtung für Verschiebungsmesssysteme
EP1865291
Art B1
19. August 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1865291
- Aktenzeichen
- EP07016985
- Anmeldetag
- 9. März 2007
- Veröffentlichung
- 19. August 2015
- Erteilung
- 19. August 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01D5/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ras, Michael Adrianus Josephus
Veldhoven, Niederlande
15
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
EP&C
EP&C · Rijswijk
-
Seitz, Holger Fritz Karl
NoneRijswijk
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon