Entfernen von Hochionendotiertem Photolack mit Selbstorganisierten Monoschichten in Lösungsmittelsystemen
EP1877530
Art A2
16. Januar 2008
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1877530
- Aktenzeichen
- EP06749725
- Anmeldetag
- 10. April 2006
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311G03F7/42C11D11/00C11D3/16C11D3/28C11D3/30C11D3/43C11D7/22C11D7/32C11D7/50B82Y30/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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Vertreten von
ABG Patentes, S.L
Madrid, Spanien
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