Inspektionsverfahren und Gerät, lithographisches Gerät, lithographische Prozesslinie und Verfahren zum Herstellen von Bauelementen

EP1881374 Art B1 5. September 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1881374
Aktenzeichen
EP07252745
Anmeldetag
9. Juli 2007
Veröffentlichung
5. September 2018
Erteilung
5. September 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen