Verfahren zur Herstellung einer Siliziumcarbidschicht, Galliumnitrid-Halbleiterbauelement und Siliziumsubstrat

EP1891663 Art A1 27. Februar 2008

Anmelder: SHOWA DENKO K.K., SHOWA DENKO KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1891663
Aktenzeichen: EP06766412
Anmeldetag: 23. Mai 2006
Veröffentlichung: 27. Februar 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/205H01L21/02C30B25/02C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SHOWA DENKO K.K.
SHOWA DENKO KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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