Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen

EP1901125 Art A1 19. März 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1901125
Aktenzeichen: EP06019265
Anmeldetag: 14. September 2006
Veröffentlichung: 19. März 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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