Sputtertarget zur Bildung von Phasenwechselfilmen und Verfahren zur Herstellung des Targets
EP1903122
Art A1
26. März 2008
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1903122
- Aktenzeichen
- EP06768031
- Anmeldetag
- 10. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 26. März 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F9/04C22C1/04C22C28/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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