Maskenloses Lithographiesystem mit Verbesserter Zuverlässigkeit
EP1913623
Art B1
27. Mai 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V., MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1913623
- Aktenzeichen
- EP06769403
- Anmeldetag
- 25. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2020
- Erteilung
- 27. Mai 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
-
De Hoop, Eric
NoneDen Haag