Projektionsbelichtungsvorrichtung zur EUV-Lithographie

EP1927032 Art B1 23. Januar 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1927032
Aktenzeichen: EP07818215
Anmeldetag: 18. September 2007
Veröffentlichung: 23. Januar 2013
Erteilung: 23. Januar 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von