Sputtertarget aus Silberlegierung zur Bildung einer reflektierenden Schicht auf einem optischen Aufzeichnungsmedium

EP1947645 Art B1 30. September 2009

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1947645
Aktenzeichen: EP08155426
Anmeldetag: 13. März 2003
Veröffentlichung: 30. September 2009
Erteilung: 30. September 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G11B7/26G11B7/24C23C14/34G11B7/258

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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