Verfahren zum Herstellen von Nanoporösem Substrat

EP1950799 Art B1 18. April 2012

Anmelder: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1950799
Aktenzeichen: EP06832578
Anmeldetag: 14. November 2006
Veröffentlichung: 18. April 2012
Erteilung: 18. April 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/306B82B3/00C08J9/00C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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