Steuerungssystem, lithografisches Projektionsgerät, Verfahren zur Steuerung einer Stützstruktur und Computerprogramm
EP2006740
Art B1
12. August 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2006740
- Aktenzeichen
- EP08158686
- Anmeldetag
- 20. Juni 2008
- Veröffentlichung
- 12. August 2015
- Erteilung
- 12. August 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Ketelaars, Maarten F.J.M
NoneDen Haag