Strahlungsvorrichtung für geladene Teilchen und Strahlungsverfahren
EP2023373
Art B1
2. April 2014
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2023373
- Aktenzeichen
- EP08017746
- Anmeldetag
- 10. September 2003
- Veröffentlichung
- 2. April 2014
- Erteilung
- 2. April 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/153
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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