Resistzusammensetzung zur Immersionsbelichtung und Verfahren zur Herstellung eines diese nutzenden Halbleiterbauelements
EP2031446
Art A1
4. März 2009
Anmelder: Fujitsu Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2031446
- Aktenzeichen
- EP08162306
- Anmeldetag
- 13. August 2008
- Veröffentlichung
- 4. März 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujitsu Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
17.891 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Seeger, Wolfgang
München, Deutschland
171
Patente gesamt
18
Fachgebiete
4
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Reichert & Lindner Partnerschaft Patentanwälte
Reichert & Lindner Partnerschaft Patentanwälte · Regensburg
-
Seeger Seeger Lindner Partnerschaft Patentanwälte
Seeger Seeger Lindner Partnerschaft Patentanwälte · München