Chromatographiesäule und Verfahren zur Herstellung davon
EP2048497
Art B1
8. Oktober 2014
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Octec Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2048497
- Aktenzeichen
- EP07792504
- Anmeldetag
- 14. August 2007
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2014
- Erteilung
- 8. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N30/60G01N30/88G01N30/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Octec Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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