Verfahren zur Messung des Fokus einer lithographischen Projektionsvorrichtung
EP2063321
Art A3
12. Juli 2017
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2063321
- Aktenzeichen
- EP08169443
- Anmeldetag
- 19. November 2008
- Veröffentlichung
- 12. Juli 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Ketelaars, Maarten F.J.M
NoneDen Haag