Zusammensetzungen und Verfahren zur Entfernung von Fotolack bei einer Wafer-Nacharbeit
EP2082024
Art A1
29. Juli 2009
Anmelder: Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2082024
- Aktenzeichen
- EP07843089
- Anmeldetag
- 25. September 2007
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D1/00C11D3/20C11D3/30C11D11/00C11D3/04G03F7/40G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Advanced Technology Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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