Markierungsstruktur zur groben Wafer-Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung einer solchen Markierungsstruktur
EP2093617
Art B1
8. Juli 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2093617
- Aktenzeichen
- EP09153326
- Anmeldetag
- 20. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 8. Juli 2015
- Erteilung
- 8. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven