Polierschlämme auf Wasserbasis zum Polieren eines Siliziumcarbid-Einkristallsubstrats und Polierverfahren dafür
EP2100325
Art A1
16. September 2009
Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2100325
- Aktenzeichen
- EP07851023
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 16. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/04B24B37/005C09K3/14C30B29/36H01L29/16B24B37/04C30B33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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