Polierschlämme auf Wasserbasis zum Polieren eines Siliziumcarbid-Einkristallsubstrats und Polierverfahren dafür

EP2100325 Art A1 16. September 2009

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2100325
Aktenzeichen
EP07851023
Anmeldetag
17. Dezember 2007
Veröffentlichung
16. September 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/04B24B37/005C09K3/14C30B29/36H01L29/16B24B37/04C30B33/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Showa Denko K.K.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen