Verfahren zur Bildung eines Verdrahtungsfilms, Transistor und Elektronisches Bauelement

EP2101346 Art A1 16. September 2009

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2101346
Aktenzeichen
EP07860159
Anmeldetag
26. Dezember 2007
Veröffentlichung
16. September 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/3205G02F1/1343G02F1/1368H01L21/285H01L23/52H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/78H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ULVAC, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Kanzlei
Mitscherlich PartmbB München, Deutschland

Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.

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