Halbleiterbauelement und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP2112685
Art A1
28. Oktober 2009
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2112685
- Aktenzeichen
- EP07860208
- Anmeldetag
- 26. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 28. Oktober 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L21/314H01L23/522
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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