Integrationssubstrat mit Kondensator mit Ultrahoher Dichte und Substratdurchgang
EP2145351
Art A1
20. Januar 2010
Anmelder: IPDIA, NXP B.V. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2145351
- Aktenzeichen
- EP08751176
- Anmeldetag
- 8. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/498H01L27/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IPDIA
NXP B.V. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇳🇱
NXP Semiconductors
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
7.918 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Plasseraud IP
Plasseraud IP · Paris
-
Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris