Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske

EP2146244 Art B1 16. März 2016

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2146244
Aktenzeichen: EP08751903
Anmeldetag: 22. April 2008
Veröffentlichung: 16. März 2016
Erteilung: 16. März 2016
Rechtsraum: EP
IPC: C03B23/025G03F7/20G03F1/00G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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