Verfahren zur Untersuchung eines Wafers Hinsichtlich eines Kontaminationslimits und Euv-Projektionsbelichtungssystem

EP2171541 Art B1 14. September 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2171541
Aktenzeichen: EP08784811
Anmeldetag: 16. Juli 2008
Veröffentlichung: 14. September 2011
Erteilung: 14. September 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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