Lithografische Vorrichtung und Feuchtigkeitsmesssystem
EP2172766
Art A1
7. April 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2172766
- Aktenzeichen
- EP09169151
- Anmeldetag
- 1. September 2009
- Veröffentlichung
- 7. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/31G01N21/35G01N21/39G03F1/00G03F7/20G01J3/427
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven