Zusammensetzung und Verfahren zur Entfernung von Ionenimplantiertem Fotolack
EP2190967
Art A2
2. Juni 2010
Anmelder: Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2190967
- Aktenzeichen
- EP08827598
- Anmeldetag
- 20. August 2008
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Advanced Technology Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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Vertreten von
ABG Patentes, S.L
Madrid, Spanien
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