Projektionsobjektiv mit Obskurisierter Pupille für die Mikrolithographie

EP2191331 Art B1 31. Mai 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2191331
Aktenzeichen: EP08802330
Anmeldetag: 18. September 2008
Veröffentlichung: 31. Mai 2017
Erteilung: 31. Mai 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G02B27/00G02B17/06G02B5/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von