Mikrolithographie-Projektionssystem mit einer zugänglichen Aperturblende

EP2192446 Art B1 19. Oktober 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2192446
Aktenzeichen
EP10002198
Anmeldetag
4. März 2006
Veröffentlichung
19. Oktober 2011
Erteilung
19. Oktober 2011
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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