Reinigungsverfahren eines Halbleiter-Wafers
EP2194567
Art B1
15. August 2012
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2194567
- Aktenzeichen
- EP09014689
- Anmeldetag
- 25. November 2009
- Veröffentlichung
- 15. August 2012
- Erteilung
- 15. August 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02B08B3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank