Epitaktisches Sic-Einkristallsubstrat und Verfahren zur Herstellung von Epitaktischem Sic-Einkristallsubstrat
Anmelder: Showa Denko K.K., National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Central Research Institute of Electric Power Industry, National Institute of Advanced Industrial Science And Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2196566
- Aktenzeichen
- EP08829974
- Anmeldetag
- 12. September 2008
- Veröffentlichung
- 16. Juni 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/36C30B25/20C23C16/42H01L21/205C23C16/32C23C16/46C30B25/02H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Showa Denko K.K.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Central Research Institute of Electric Power Industry
National Institute of Advanced Industrial Science And Technology - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
2.327 Patente in unserer Datenbank
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
147 Patente in unserer Datenbank