Lithografische Vorrichtung und Positionierungsvorrichtung
EP2202581
Art B1
1. Oktober 2014
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2202581
- Aktenzeichen
- EP09175848
- Anmeldetag
- 12. November 2009
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2014
- Erteilung
- 1. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20F25B21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Brookhuis, Hendrik Jan Arnold
Rijswijk, Niederlande
332
Patente gesamt
30
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
EP&C
EP&C · Rijswijk
-
Maas, Abraham Johannes
NoneVeldhoven