Reinigungszusammensetzung mit einem N-Substituierten Imidazol und Verfahren zur Reinigung eines Kupferfilms
EP2209864
Art A1
28. Juli 2010
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2209864
- Aktenzeichen
- EP08850461
- Anmeldetag
- 12. November 2008
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
Showa Denko K.K. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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