Reinigungszusammensetzung mit einem N-Substituierten Imidazol und Verfahren zur Reinigung eines Kupferfilms

EP2209864 Art A1 28. Juli 2010

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2209864
Aktenzeichen
EP08850461
Anmeldetag
12. November 2008
Veröffentlichung
28. Juli 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C09G1/02H01L21/321
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Showa Denko K.K.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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