Zusammensetzung zur Bildung eines Basisfilms für die Lithografie und Verfahren zur Bildung einer Mehrschicht-Resiststruktur

EP2219076 Art B1 20. November 2013

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2219076
Aktenzeichen
EP08857409
Anmeldetag
1. Dezember 2008
Veröffentlichung
20. November 2013
Erteilung
20. November 2013
Rechtsraum
EP
IPC
C08G10/04C07C45/71C07C49/83C07C67/14C07C69/74C08G8/38
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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