Zusammensetzung zur Bildung eines Basisfilms für die Lithografie und Verfahren zur Bildung einer Mehrschicht-Resiststruktur
EP2219076
Art B1
20. November 2013
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2219076
- Aktenzeichen
- EP08857409
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 20. November 2013
- Erteilung
- 20. November 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G10/04C07C45/71C07C49/83C07C67/14C07C69/74C08G8/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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