Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
EP2261739
Art B1
5. Juni 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2261739
- Aktenzeichen
- EP10171096
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2019
- Erteilung
- 5. Juni 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
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