Verfahren zum Erzeugen von Rissen in einer Stange aus polykristallinen Silicium und Vorrichtung zur Erzeugung von Rissen

EP2280097 Art B1 23. Mai 2012

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2280097
Aktenzeichen
EP10171153
Anmeldetag
28. Juli 2010
Veröffentlichung
23. Mai 2012
Erteilung
23. Mai 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C30B15/02C30B29/06B02C19/18C30B15/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Materials Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

1.978 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen