Zusammensetzung zur Bildung einer Ferroelektrischen Dünnschicht, Verfahren zur Bildung einer Ferroelektrischen Dünnschicht und anhand des Verfahrens Gebildete Ferroelektrische Dünnschicht

EP2298714 Art B1 5. Juli 2017

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2298714
Aktenzeichen: EP09754780
Anmeldetag: 28. Mai 2009
Veröffentlichung: 5. Juli 2017
Erteilung: 5. Juli 2017
Rechtsraum: EP
IPC: C04B35/49C01G25/00C04B35/46H01L21/316H01L21/8242H01L21/8246H01L27/105H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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