Vorrichtung für Geladene Teilchenstrahlen und Darin Angewendetes Verfahren zur Messung Geometrischer Abweichungen

EP2328168 Art B1 29. April 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2328168
Aktenzeichen: EP09815808
Anmeldetag: 5. August 2009
Veröffentlichung: 29. April 2015
Erteilung: 29. April 2015
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/153H01J37/09H01J37/22H01J37/21H01J37/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von