Kondensatoren, Dielektrische Strukturen sowie Verfahren zur Herstellung Dielektrischer Strukturen

EP2335276 Art B1 25. Februar 2015

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2335276
Aktenzeichen
EP09820968
Anmeldetag
10. September 2009
Veröffentlichung
25. Februar 2015
Erteilung
25. Februar 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/314H01L21/8242H01L27/108H01L29/51H01L21/28H01L21/02H01L49/02// H01L29/78
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

5.073 Patente in unserer Datenbank

Kanzlei
Marks & Clerk LLP

Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.

37.082
Patente gesamt
30
Patentanwälte
8
Standorte

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen