Siliciumwafer und Herstellungsverfahren dafür

EP2345752 Art B1 15. Februar 2012

Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2345752
Aktenzeichen
EP10195066
Anmeldetag
15. Dezember 2010
Veröffentlichung
15. Februar 2012
Erteilung
15. Februar 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C30B15/04C30B15/14C30B29/06C30B15/20H01L21/322
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Siltronic AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

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