Trennverfahren für ein Schichtsystem umfassend einen Wafer
EP2382656
Art B1
3. Oktober 2018
Anmelder: Nissan Chemical Corporation, Nissan Chemical Industries, Ltd., Thin Materials AG 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2382656
- Aktenzeichen
- EP09795451
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2018
- Erteilung
- 3. Oktober 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nissan Chemical Corporation
Nissan Chemical Industries, Ltd.
Thin Materials AG - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
2.124 Patente in unserer Datenbank