Plasmaprozessvorrichtung und zugehörige Struktur zur Prozessgaszuführung

EP2390898 Art B1 14. Mai 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2390898
Aktenzeichen: EP11004311
Anmeldetag: 25. Mai 2011
Veröffentlichung: 14. Mai 2014
Erteilung: 14. Mai 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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